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電子通道襯度成像（ECCI）

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電子通道襯度成像（ECCI）

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項目介紹

ECCI，全寫為electron channeling contrast imaging，即電子通道襯度成像。

ECCI可以進行下列測試表征：

（1）原位試驗（暫無測試）: 單軸、多軸、循環(huán)變形等試驗，ECCI擁有原位表征能力，可以分析同一區(qū)域在不同變形階段的位錯表現(xiàn)；

（2）位錯統(tǒng)計：ECCI表征面積較大，可以對一定范圍內(nèi)的位錯進行定量或者半定量分析；

（3）特定位置位錯分析：ECCI不需要減薄，即可以對裂尖、特定取向晶粒、應(yīng)力集中位置等特殊位置的位錯進行表征；

（4）環(huán)境試驗：ECCI可以對腐蝕環(huán)境下的變形和失效樣品位錯進行表征。

樣品要求

1. 樣品應(yīng)為晶體材料，表面具有良好的晶體結(jié)構(gòu)；

2. 樣品尺寸小于1 x 1 x 0.5cm；EBSD測試后的樣品可直接測試；

3. 需要對樣品進行拋光處理，獲得平整的表面；

4. 給出拍攝倍數(shù)要求和圖片張數(shù)要求；目前最多10張圖。

項目案例

Dislocation cells

Dislocation cells with one activated twin system

Dislocation cells with two activated twin systems

常見問題

1、電子通道襯度成像（ECCI）技術(shù)的優(yōu)勢？

（1）樣品制備簡單和非破壞性：相比于透射電鏡技術(shù)復(fù)雜的樣品制樣過程，用于ECCI表征的樣品制備過程非常簡單，只需將塊狀樣品的表面拋光至鏡面即可；對于特定取向的晶粒、應(yīng)力集中區(qū)、失效開裂區(qū)的缺陷分析，ECCI 技術(shù)也只要通過常規(guī)的樣品制備就可實現(xiàn)觀察，無需FIB技術(shù)定點制備薄片樣品；由于制樣過程無需破壞樣品，在ECCI表征后樣品還可進行后續(xù)實驗；

（2）高通量分析：結(jié)合掃描電鏡的大視野和大像素成像技術(shù)特點，ECCI技術(shù)可實現(xiàn)大面積高通量的晶體缺陷采集，為實現(xiàn)晶體缺陷的統(tǒng)計分析提供可能；

（3）更高的分析靈敏度和分辨率，更高效率：ECCI技術(shù)利用掃描電鏡高分辨成像，其數(shù)據(jù)采集效率高，圖像分辨率高，對材料的形變靈敏，即使材料內(nèi)部有較小的形變，也將在ECCI圖像中看出端倪。

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7天無理由免費復(fù)測

1. 復(fù)測保證

如果在訂單完成之后7天內(nèi)對結(jié)果存疑,可申請同條件免費復(fù)測，更換條件或者參數(shù)不能參與免費復(fù)測保障服務(wù)，全程由專業(yè)團隊操作，確保結(jié)果有效性；

2. 具體細(xì)則

每單限1次復(fù)測機會，單次需小于5個樣品; 此外免費復(fù)測樣品必須為同一樣，私人定制、云視頻測試不可享受此服務(wù)；

3. 注意事項

如果由于您自身樣品的情況(樣品有問題/選錯測試條件等)將不可享受此服務(wù)；

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